真空成型

2013 年 4 月 22 日  星期一   晴天


激光鐳雕基本原理 分類: 未分類
激光鐳雕基本原理
激光鐳雕的基本原理是,由激光發生器生成高能量的雷射雕刻連續激光光束,當激光作用於承印材料時,處於基態的原子躍遷到較高能量狀態;處於較高能量狀態的原子是不穩定的,會很快回到基態,當原子返回基態時,會以光子或量子的形式釋放出額外的能量,並由光能轉換為熱能,使表面材料瞬間熔融,甚至氣化,從而形成圖文標記。

鐳雕是指激光雕刻,是通過激光束的光能導致表層物質的化學物理變化而刻出痕跡,或者是通過光能燒掉部分物質,顯出所需刻蝕的圖形、文字;按照雕刻方式不同可以分為點陣雕刻和矢量切割。

點陣雕刻。酷似高清晰度的點陣打印;激光頭左右擺動,每次雕刻出一條由一系列點組成的一條線,然後激光頭同時上下移動雕刻出多條線,最後構成整版的圖像或文字;其掃描的圖形、文字及矢量化圖文都可以使用點陣雕刻。

矢量切割。矢量雕刻與點陣雕刻不同,矢量切割是在圖文的外輪廓線上進行。通常采用這種模式在木材、紙張、亞克力等材料上進行穿透切割,也可在多種材料表面進行打標操作!





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